Title: Mechanizm domieszkowania tlenem cienkich warstw GaN za pomocą napylania magnetronowego i analiza formowania kontaktu omowego z wysokodomieszkowaną warstwą podkontaktową n-GaN:O do n-GaN i tranzystorów AlGaN/GaN HEMT
Project leader: Monika Masłyk
Laboratory: Laboratory of Semiconductor Characterization (NL-12)
Call/Programme name: PRELUDIUM
Project number: 2018/31/N/ST7/03624
Implementation date: 01.10.2021 11.02.2023
Implementing entity: Institute of High Pressure Physics
Total funding granted: 99 471.04 zł
Funding for the entity: 99 471.04 zł
Funding institution: National Science Center
Back to projects list