Naukowcy IWC PAN z zaproszonym referatem i tutorialem na ISPlasma2027

W dniach 2-6 marca 2027 r. na Uniwersytecie Nagoya w Japonii odbędzie się konferencja 19th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 20th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2027/IC-PLANTS2027).

W konferencji, w ramach tematyki Wide Bandgap Semiconductors uczestniczyć będą naukowcy z Instytutu Wysokich Ciśnień PAN (Unipress):

• Dr Tomasz Sochacki z Laboratorium NL-3 wygłosi referat zaproszony (Invited Talk) „Anisotropy in Ammonothermal Growth of Nitrides: Killer or Ally?” prezentując wyniki badań prowadzonych w IWC PAN.
• Prof. Michał Boćkowski został zaproszony jako wykładowca tutorialu (Tutorial Speaker) “From Thermodynamics to Large-Area GaN Substrates: A Tutorial on Bulk GaN Growth”.

Termin zgłaszania abstraktów został przedłużony do 19 października 2026 r. (JST).

Zgłaszanie abstraktów – ISPlasma2027/IC-PLANTS2027