Tematyka badawcza
Laboratorium Krystalizacji (NL-3) koncentruje się na wzroście objętościowych kryształów GaN oraz azotkowych stopów trójskładnikowych, takich jak AlGaN, a także innych związków o znaczeniu technologicznym. Badania ukierunkowane są na fundamentalne zrozumienie mechanizmów wzrostu kryształów oraz procesów z nim związanych, w tym kontrolowanego domieszkowania.
Badania wzrostu kryształów prowadzone są z wykorzystaniem dwóch głównych metod: Halide Vapor Phase Epitaxy (HVPE) oraz technologii wysokich ciśnień (High Pressure, HP). Systemy wysokociśnieniowe w laboratorium umożliwiają pracę w ekstremalnych warunkach, osiągając jednocześnie ciśnienia do 2 GPa i temperatury do 1450°C. Parametry te stwarzają unikatowe możliwości badania krystalizacji w niestandardowych warunkach termodynamicznych. W tym zakresie możliwe jest systematyczne analizowanie zmian struktury krystalicznej, powstawania defektów oraz wynikających z nich właściwości fizycznych. Ponadto laboratorium rozwija epitaksjalne struktury półprzewodnikowe dla zastosowań w optoelektronice i elektronice z wykorzystaniem metody Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE).
Działalność laboratorium obejmuje również kontrolowane domieszkowanie oraz zaawansowaną charakteryzację materiałów, w tym mikroskopię optyczną w zakresie światła widzialnego i ultrafioletowego, dyfrakcję rentgenowską, foto-trawienie oraz trawienie selektywne defektów. Uzupełniające techniki ujawniania defektów stosowane są do identyfikacji dyslokacji i elektrycznie aktywnych niejednorodności w kryształach GaN i SiC, a nanostruktury GaN wytworzone metodą foto-trawienia mogą dodatkowo pełnić funkcję efektywnych platform SERS do detekcji śladowych ilości związków chemicznych.
Prowadzone badania integrują inżynierię materiałową, fizykę i chemię, rozwijając naukowe zrozumienie procesów wzrostu kryształów istotnych dla nowoczesnych technologii półprzewodnikowych opartych na azotkach.
Członkowie zespołu
Adiunkt
Inżynier
Asystent
Technik
Adiunkt
Asystent
Asystent
Technik
Adiunkt
Technolog
Adiunkt
Asystent
Informatyk technolog
Inżynier-technolog
Inżynier
Adiunkt
Technik
prof. dr hab. Henryk Teisseyre
Adiunkt
Profesor instytutu
Technik
Asystent
Aktualności
Projekty realizowane
Tomasz Sochacki
Narodowe Centrum Badań i Rozwoju
-
Styczeń 2024 Styczeń 2028
Marcin Zając
Narodowe Centrum Nauki
-
Styczeń 2021 Styczeń 2027
Michał Boćkowski
Narodowe Centrum Nauki
-
Styczeń 2024 Styczeń 2027
Tomasz Sochacki
Narodowe Centrum Badań i Rozwoju
-
Styczeń 2024 Styczeń 2027
Projekty zakończone
Tomasz Sochacki
Narodowe Centrum Nauki
-
Czerwiec 2021 Czerwiec 2026
Kacper Paweł Sierakowski
Narodowe Centrum Nauki
-
Styczeń 2022 Styczeń 2026
Adil Rehman
Narodowe Centrum Nauki
-
Grudzień 2024 Grudzień 2025
Michał Boćkowski
Komisja Europejska
-
Czerwiec 2021 Sierpień 2025
ECSEL JU
-
Czerwiec 2021 Sierpień 2025
Jan Weyher
Narodowe Centrum Nauki
-
Sierpień 2020 Sierpień 2025
Michał Boćkowski
Office of Naval Research
-
Wrzesień 2021 Wrzesień 2024
Michał Boćkowski
Narodowe Centrum Nauki
-
Wrzesień 2019 Grudzień 2022
Michał Boćkowski
Fundacja na rzecz Nauki Polskiej
-
Październik 2018 Czerwiec 2022
Michał Boćkowski
Narodowe Centrum Nauki
-
Styczeń 2018 Styczeń 2020
Aparatura
Charakteryzacja materiałów i przyrządów
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Charakteryzacja materiałów i przyrządów
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Charakteryzacja materiałów i przyrządów
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur
Wytwarzanie materiałów i struktur